HOME 製品・サービス 装置・精密機器MOCVD装置 有機金属気相成長装置（MOCVD）の開発、設計、製作 製品・サービス 製品・サービス 産業用ガス 工業用ガス 次世代冷媒ガス ガス関連機器 特殊ガス 医療用ガス 溶接材料・機器 溶接材料 溶接機器 自動溶接システム FA・産業機器 その他機器 化学品･ウレタン 基礎工業薬品 特殊化学品 合成樹脂 ウレタン断熱パネル ウレタン吹付･注入工事 その他 装置・精密機器 ガス循環(回収)精製装置 グローブボックス MOCVD装置 真空蒸着装置 マスフローコントローラ ファインカーボン 超音波加工機 炭酸ガス中和装置 泡沫分離装置 有機金属気相成長装置（MOCVD）の開発、設計、製作 製品の特長 本装置は、Si（シリコン）、GaAs（ガリヒ素）、GaN（ガリウムナイトライド）などの基板に高温下で有機金属（有機溶剤に金属を溶融したもの）とガス（AsH3、PH3、NH3など）を反応させて化学的に薄膜を形成させるものです。弊社装置の特徴は、カスタマイズ仕様に対応可能で低価格・短納期を実現しております。装置構成は原料の供給、成膜炉の制御、排気及び除害処理、安全監視など一貫したシステムを提供いたします。 MOCVD装置 ハライドVPE装置
